美国为了打压中国芯片产业，一直限制中国本土企业购买先进的芯片设备，特别是光刻机。 目前ASML能够卖给我们的光刻机，表面上看似乎所有DUV都可以，但实际上先进的浸润式DUV并不卖给我们，只有相对落后的一些低端产品，我们能够买到的，落后欧美10多年。 至于EUV光刻机，那就想都别想了，美国、ASML是严防死守，因为它们知道，一旦我们拥有EUV，那么马上就能够进入7nm之下，那中国芯片产业崛起就是必然的了。 在这样的背景之下，我们只有研发自己的EUV光刻机才行，否则就会一定受限。 虽然也有这样、那样的技术，似乎可以避开EUV，或者压榨DUV到极限，但说实话，如果有了EUV，这些技术都可以暂时不用，用EUV进行物理微缩，是当前的大势所趋，只有没有EUV时，才去研究这些折叠技术，是不得已而为之。 EUV光刻机，有三大件，分别是EUV光源，物镜系统，工作台。 这三大件都非常重要，门槛非常高，但其中EUV光源应该是难度相对更大的一大件，ASML也是集合了多家供应链，才整出光源系统。 ASML的做法是，通过高功率30KW的二氧化碳激光，轰击液态锡滴，然后将这些锡珠再蒸发产生等离子体，从而辐射出EUV光，再捕获这个13.5nm波长的光源，从而形成了EUV的光源系统。 这个光源系统非常复杂，集合了全球众多企业的力量，外界甚至认为，除了ASML有这个能力外，其它企业连EUV光源都搞不出来。 但近日，在第二十六届中国国际工业博览会上，一家中国企业展出了一台极紫外（EUV）光源系统样机，这家中国企业就是朗道燧岩（上海）科技有限公司。 这是目前国产进度最靠前的EUV光源样机，并且这台样机的国产化率高达90%，几乎是不依赖于国外的技术、元件的。 目前朗道燧岩的官方上也有这台样机的介绍，大家可以自行去查看，型号为FlintNano LPP-OXXO，驱动激光功率为1000W，EUV能量大于15W，转换效率大于2%…… 当然，综合来看，与ASML的EUV光刻机中的EUV光源相比，还是有一定的差距，但是ASML研发了多久，整合了全球最优秀的供应链。 而国产厂商是靠自己的实力研发出来的，从这一点上，就足够让我们兴奋与激动了。 当然，仅有EUV光源还是不够，一台完整的EUV光刻机，还需要物镜系统、工作台等，但路一步一步走，搞定了光源，就可以搞定物镜系统，搞定工作台，一样一样来，这是迟早的事。 相信现在不管是ASML、还是美国，都有点慌了，毕竟一旦我们研发出了EUV光刻机，ASML的光刻机帝国就会崩盘，而美国的禁令，也将成为废纸，不怕才是怪事。 特别
