马斯克最新发声:中国规模化制造威力惊人,DRAM赛道或将复刻光伏、锂电池故事,下一代HBM架构挑战更大

2026-10-13

投资者内参丨寿紫薇 10月13日,特斯拉与SpaceX创始人埃隆·马斯克在社交平台X上表示,一旦中国掌握某种产品的制造工艺,其规模化能力将远超世界其他地区。 他以锂离子电池和太阳能产品为例,指出中国在制造规模上具有明显优势;同时提到,SpaceX是少见的例外,因为美国在火箭发射入轨载荷质量方面仍远超世界其他地区。 马斯克进一步表示,内存芯片可能遵循类似轨迹。他指出,RAM在几年前仍被视为低毛利大宗商品,而LP5、LP6等产品的标准化设计,天然有利于不同制造商进行大规模生产。如果中国厂商能够迅速解决制造和良率挑战,传统RAM市场的竞争格局可能发生更大变化。上述言论发表前后,全球存储芯片板块已出现明显波动。10月12日美股交易中,美光科技(MU)收跌3.88%至每股989.04美元,拖累纳指表现。在长鑫存储公布新型芯片结构进展后,投资者正在评估这家中国存储芯片制造商可能带来的竞争压力。 此前在10月9日至10日于上海举行的第四届集成芯片和芯粒大会上,长鑫科技总裁曹堪宇发表演讲,介绍了公司在DRAM器件、4F²架构及混合键合等方向的技术进展,并正式宣布预计将于2026年底推出融合上述先进技术的新一代DDR5 RDIMM产品。曹堪宇表示,4F²架构的核心在于自研的VSG(Vertical Surrounded Gate)晶体管,采用垂直包围沟道结构,可实现更强栅控,解决漏电与短沟道效应痛点,同时竖立的晶体管有助于面积微缩和存储密度提升。长鑫自成立以来即启动4F²研究与专利布局,公开专利族超过300件。 与当前主流6F²架构相比,4F²将每个存储单元的面积从6倍最小特征尺寸的平方缩减至4倍,同面积存储密度可提升30%至50%。从6F²到4F²的跨越,本质上代表晶体管沟道方向从水平布局向竖立布局的根本性变革,设计和工艺流程无法完全复用,需要整合新一套工艺流程。 对DRAM制造商而言,该技术的核心价值不仅在于提高容量,也在于改善成本结构。如果长鑫存储能在量产中保持稳定良率,每片晶圆的有效比特产出预计将增加,从而降低每比特制造成本。这可能使公司在价格竞争中拥有更大灵活性,或在相同售价下改善利润率。值得注意的是,长鑫存储将4F²架构首代产品定为DDR5 RDIMM,直接面向服务器内存市场。DDR5 RDIMM需支持服务器7×24小时不间断运行,经受带电热插拔的电压冲击,并须与不同厂商、不同代际的CPU和主板完成数百项严苛的兼容性测试。 这 一进度时间表,可能使三星电子和SK海力士面临更直接的竞争压力。10月13日,截至早上8点54分,韩国KOSPI指数跌幅扩大至5%,报6059点,创8月3日以来新低。SK海力士跌超7%,三星电子跌近6%。 马斯克的言论也反映出,市场正在区分不同类型的存储产品,传统RAM的标准化程度更高,制造能力与产能扩张可能是竞争关键。相比之下,下一代HBM,以及逻辑电路下配置SRAM或逻辑芯片上3D堆叠存储的架构,仍面临更大的集成与热管理挑战。 #马斯克#长鑫存储#HBM#存储#美光科技#三星#SK海力士 风险提示:本文为内容资讯,不构成投资建议。市场有风险,投资需谨慎。 特别

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